- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/66 - Réceptacles spécialement adaptés aux masques, aux masques vierges ou aux pellicules; Leur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/66
Brevets de cette classe: 207
Historique des publications depuis 10 ans
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Entegris, Inc. | 1736 |
40 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
31 |
Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. | 125 |
25 |
ASML Netherlands B.V. | 6816 |
16 |
Nikon Corporation | 7162 |
7 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
6 |
Brooks Automation (Germany) GmbH | 74 |
6 |
ASML Holding N.V. | 542 |
5 |
Murata Machinery, Ltd. | 1386 |
5 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
4 |
Applied Materials, Inc. | 16587 |
4 |
Mitsui Chemicals, Inc. | 3134 |
3 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 35384 |
3 |
Fine Semitech Corp. | 22 |
3 |
IUCF-HYU (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University) | 1115 |
3 |
Ordos Yuansheng Optoelectronics Co., Ltd. | 1232 |
3 |
Changxin Memory Technologies, Inc. | 4732 |
3 |
Tokyo Electron Limited | 11599 |
2 |
Hugle Electronics Inc. | 21 |
2 |
Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University | 1001 |
2 |
Autres propriétaires | 34 |